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本校於2013年6月4日獲得美國第US 8,455,642 B2號專利,專利名稱為「Photosensitizers for DSSCs (光敏染料及其製造方法)」

 

本校於2013年6月4日獲得美國第US 8,455,642 B2號專利,專利名稱為「Photosensitizers for DSSCs (光敏染料及其製造方法)

內容:

  1. 專利國別:美國
  2. 公告日:2013年6月4日
  3. 專利類型:發明
  4. 專利號:US 8,455,642 B2
  5. 專利名稱:Photosensitizers for DSSCs (光敏染料及其製造方法)
  6. 摘要:A theme of the present invention is to propose a new series of N-heterocyclic carbene-pyridine ruthenium sensitizers incorporated with at least one carbene unit and provide their synthetic methods. The structural modification on the carbene-pyridine ligand of ruthenium complexes resulted in promising photosensitizers for dye-sensitized solar cells exhibiting excellent cell performance.
  7. 發明人:李文仁、蘇昭瑾、許乃木、張瑋駿、陳慧修、李庭育、李中諺 (本校與中央大學共有)
  8. 本校教師發明人介紹:

發 明 人

蘇昭瑾

系所職位

分子科學與工程系 / 教授兼系主任

研究領域

半導體蝕刻(etching)、金屬催化固態表面分析技術(如AES、LEED、STM)、光譜技術(如TOF、MMBS、mass spectroscopy)、分子束(molecular beam)、超高真空(UHV)

相關連結

http://www.mse.ntut.edu.tw/files/11-1047-1381.php

 

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