本校研發總中心第32次研發審議委員會通過，中華民國第I326354號專利 「即時同步產生干涉影像之方法及其裝置與解析相位之方法」第4年續行維護案

內容：

1. 專利國別：中華民國
2. 公告日：2010年6月21日
3. 專利類型：發明
4. 專利號：I326354
5. 專利名稱：即時同步產生干涉影像之方法及其裝置與解析相位之方法
6. 摘要：本發明提供一種即時同步產生干涉影像之方法，其係包括有下列步驟：將一偏極光分成一第一道偏極光以及一第二道偏極光；使該第一道偏極光形成一參考光；使該第二道偏極光投射至一待測物上以形成一測物光；使該測物光與該參考光產生干涉以形成至少兩個干涉光場，各干涉光場中之測物光和參考光間之相位差量皆不相等；將該至少兩個干涉光場分成複數個子干涉光場；以及同時擷取該複數個子干涉光場形成複數個干涉影像。利用該方法，本發明更提供一種即時同步產生干涉影像之裝置，利用組合不同之光學元件實現前述之方法。本發明並提供解析由前述之即時同步方式產生之干涉影像中相位資訊之方法，使其能運用在線上即時量測，以避免環境振動干擾、節省量測時間及降低量測成本。