技術名稱

(中)：Ni觸媒均勻分散於中空矽球之技術

(英)：Technology for uniformly dispersing Ni catalysts on hollow silica spheres.

創作人

機械工程系所 李懿軒  副教授

技術摘要

本技術利用沉澱法將Ni觸媒擔載於中空矽球的內外兩側，不僅均勻分布也提高Ni在矽球上的擔載量

技術可達成之目的及優勢

Ni和Si都屬於價格較低的原料，受限於以往的技術，Ni在擔載量超過10 wt%時其觸媒性能就會開始下降，本技術可以提高觸媒擔載量到40 wt%才會達到觸媒性能的最佳值。提升分布的均勻性和擔載量就可以有效提升觸媒的轉化性能。本技術在本次的應用情境成功將觸媒轉換效率提升15%。

適用領域

電子製造業、相關會製程中會使用氨氣之產業

適用產業類別

製造業、電力及燃氣供應業

關鍵字

氨氣產氫、Ni高分散中空矽球

相關專利號

無

圖例

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